UV光解除臭装置

工作机理:

UV光解是指废气成分在高能紫外线的作用下,逐步氧化成低分子中间产物最终生成CO2、H2O及其他的离子如NOX、SO2等。有机物的光降解可分为直接光降解、间接光降解。前者是指有机物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态,再诱导一系列有机污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的有机污染物更为重要。

UV光解采用C-波段的紫外光,有足够的能量来产生自由基,引发一系列复杂的物理、化学反应。其中-C波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、树脂、等气体及消毒灭菌。

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工艺特点:

  高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及其他恶臭气体,脱臭净化效率最高可达95%以上。

  无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。

  适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行极其稳定可靠,但不适合高粉尘的现场。

  运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,设备风阻极低<50pa,可节约大量排风动力能耗。

  无需预处理:恶臭工业废气无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作气体温度在摄氏-20℃~70℃之间,pH在3~11,湿度在30%~99%之间均可正常工作。